プリント基板ダイレクト描画装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：長澤俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-039313
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235486
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 UV光硬化フィルムを貼り付けた基板に配線パターンに沿ってUV光を照射することにより、フォトマスクを使用せずに、均一な線幅で基板上にパターンを形成すること。【構成】描画テーブル3上にUV光硬化フィルムを貼り付けた基板4を真空吸着し、UV光を出射する描画ヘッド2をXY方向に移動させて基板4のUV光硬化フィルムを硬化させて基板4上に配線パターンを形成する。その際、描画ヘッド2の移動速度と光強度変調器10が出射する光強度とを同期させ、UV光硬化フィルムの露光量を一定に保つ。また、描画ヘッド2に基板4までの距離を測定するセンサを取り付け、センサの測定結果に基づき描画ヘッド2のプロジェクタ11をZ方向に移動させ、基板4上のUV光の照射径を制御して均一な線幅描画を実現する。

請求項（抜粋）：

導電性金属材料の上に光の照射によって硬化するフィルムを貼り付けた基板を載置・固定する描画テーブルと、紫外線を含む光を出射する光源と、該光源から出射する光の出力強度を調整する光強度変調器と、上記光強度変調器が出射する光が入射し、該光を導光する光ファイバと、上記光ファイバの出射光を前記基板に対して略垂直に照射せしめる照射部と該照射部を基板に対して略垂直方向に移動せしめる移動機構とを具備した描画ヘッドと、上記描画ヘッドを上記描画テーブル上で基板面に略平行にX方向およびY方向に移動させる移動機構と、上記移動機構により描画ヘッドを基板上で配線パターンに沿って移動させる制御手段とを備えたプリント基板ダイレクト描画装置であって、上記制御手段は、上記照射部を基板に対して垂直方向に移動させることにより、基板上の照射径を制御するとともに、上記描画ヘッドの移動速度と前記光強度変調器の出射光の出力強度とを同期させることにより上記基板上に張りつけたフィルムの感光量を均一化することを特徴とするプリント基板ダイレクト描画装置。

IPC (4件)：

B23K 26/08 , B41C 1/05 , G03F 7/20 511 , H05K 3/00

FI (4件)：

B23K 26/08 B , B41C 1/05 , G03F 7/20 511 , H05K 3/00 E

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭64-054455
特開昭64-054455
描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-223212 出願人：三菱重工業株式会社

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