特許

J-GLOBAL ID：200903096315011429

転写マスク

発明者： 雨宮 勲
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-125899
公開番号（公開出願番号）：特開平8-297361
出願日： 1995年04月26日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 金属層としての各種要求特性を満たす金属層を有し、耐久性等の実用性に優れた転写マスクを提供する。【構成】 本発明の転写マスクは、支持枠部12に支持された薄膜部13に開口11を形成してなる転写マスクであって、少なくとも、転写マスク表面上にイリジウム合金層2を設けた構成とする。

請求項（抜粋）：

支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクであって、少なくとも、転写マスク表面上に、Ru(ルテニウム)、Re(レニウム)、Pt(白金)、Au(金)、Rh(ロジウム)、Pd(パラジウム)、W(タングステン)、Ta(タンタル)、Mo(モリブデン)、Nb(ニオブ)のうちから選ばれる一以上の金属と、イリジウムとを含むイリジウム合金層を設けたことを特徴とする転写マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 541 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-000711
  
• 特開平2-123730
  
• リソグラフィ用反射型マスクおよび縮小投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-258085   出願人：キヤノン株式会社