特許
J-GLOBAL ID：200903096326970541
下方注入式多段型オゾン接触槽とその制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-048002
公開番号（公開出願番号）：特開平8-243571
出願日： 1995年03月08日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：
【要約】【目的】 処理水に対するオゾンガスの吸収効率を高め、コストの低廉化がはかれる上、経時的な吸収効率低下現象が生じない下方注入式多段型オゾン接触槽とその制御方法を提供することを目的とする。【構成】 オゾン接触槽11の内方を気相部が分離されているとともに液相部が相互に連通された越流式の第1反応室17、第2反応室18及び滞留室19に区画する一方、上記オゾン接触槽11に送り込まれる被処理水の流入管30の中途部に、この流入管30の管径を部分的に小径に絞ったオゾンガスインジェクター部22が形成されたキャピラリー散気部21を設け、該流入管の先端開口部20aをオゾン接触槽11内の前記第1反応室17の底壁に対向する近傍位置にまで導入したオゾン接触槽を基本構成とし、請求項2により、この構成に加えて第2反応室18の底壁近傍にオゾンの散気管33を配置した構造を提供する。
請求項（抜粋）：
オゾン接触槽の内方を、気相部が分離されているとともに液相部が相互に連通された越流式の第1反応室、第2反応室及び滞留室に区画する一方、上記オゾン接触槽に送り込まれる被処理水の流入管の中途部に、この流入管の管径を部分的に小径に絞ったオゾンガスインジェクター部が形成されたキャピラリー散気部を設け、該流入管の先端開口部をオゾン接触槽内の前記第1反応室の底壁に対向する近傍位置にまで導入したことを特徴とする下方注入式多段型オゾン接触槽。
引用特許：
前のページに戻る
