特許

J-GLOBAL ID：200903096350748043

マット面をもつ半導体工業用シリカガラス物品およびその製造方法

発明者： 剣持 克彦
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-237319
公開番号（公開出願番号）：特開平10-059744
出願日： 1996年08月20日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【目的】洗浄し易くパーテクルの発生が少なく、不純物元素により汚染されることがない。しかも寸法精度の高いシリカガラス物品及びその製造方法を提供すること。【解決手段】表面が微細な多数のエクボ状の凹面と幅が0.5〜5μmの多数の溝とからなるマット面を有する半導体工業用シリカガラス物品、及びシリカガラス物品の表面を機械加工して凹凸を設けた後洗浄し、次いで3%以上20%未満のフッ化水素を含有するフッ化水素酸で処理する製造方法。

請求項（抜粋）：

半導体工業用シリカガラス物品において、その表面に微細な多数のエクボ状の凹面と幅が0.5〜5μmの多数の溝とからなるマット面が形成されていることを特徴とする半導体工業用シリカガラス物品。

IPC (5件)：

C03C 15/00 ,  C03B 20/00 ,  C03C 19/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501

FI (5件)：

C03C 15/00 E ,  C03B 20/00 ,  C03C 19/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 M

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 粗い表面を有するシリカガラスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-259636   出願人：信越石英株式会社
• 石英ガラス製治具の表面処理方法及び表面処理された治具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-009715   出願人：株式会社福井信越石英, 信越石英株式会社