ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164760
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357902
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定の構造の2種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)及び(VII)で示される繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R2、R3は同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシル基又は置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。R4は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルメチル基、又は式(II)の基を表す。【化2】式中、R5、R6は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基もしくはシクロアルキル基を表す。R7は置換基を有していても良いアルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロシクロアルキル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。またR5〜R7の2つが結合し、環を形成しても良い。【化3】式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R2、R3は同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシル基又は置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。R19〜R20は同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、単環又は多環のシクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。Wは2価の連結基を表し、Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、-CO-、-CO2-、-OCO-、-SO-、-SO2-から選ばれる基を表し、R22はヘテロ原子を有していてもよい炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (16件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

パターン形成材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-112174 出願人：松下電器産業株式会社

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