特許

J-GLOBAL ID：200903096460858405

パターン検査方法及びその装置

発明者： 井上 広
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-000769
公開番号（公開出願番号）：特開2007-183135
出願日： 2006年01月05日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：

【課題】半導体パターンの線幅、ピッチが検査光の波長以下になっても半導体パターン上の欠陥の検出能力を維持すること。【解決手段】センサ2及び拡大光学系3の各特性に基づいて作成されたセンサ2の出力特性データCを参照してセンサ画像データ4の画素を補間処理し、この補間処理されたセンサ画像データ27からマスク1に形成されたパターンの像を復元したセンサ画像データ28を取得するマスク復元フィルタ20を設けた。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被検査パターンをセンサにより撮像して取得したセンサ画像データと前記被検査パターンの参照データとに基づいて前記被検査パターンを検査するパターン検査方法において、 少なくとも前記センサの特性に基づいて作成させた前記センサの出力特性データを参照して前記センサ画像データの画素を補間処理し、この補間処理された前記センサ画像データから前記被検査パターンの像を復元し、 前記復元された前記センサ画像データと前記参照データとを比較して前記被検査パターンを検査する、 ことを特徴とするパターン検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G06T 1/00

FI (3件)：

G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  G06T1/00 305A

Fターム (37件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065FF04 ,  2F065FF55 ,  2F065GG25 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR08 ,  2G051AA56 ,  2G051CA04 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EC04 ,  2G051ED11 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA29 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB02 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE06 ,  5B057CH07 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン検査方法とその装置およびマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-073856   出願人：株式会社東芝
• パターン検査方法、パターン検査装置およびマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-088817   出願人：株式会社東芝