特許
J-GLOBAL ID：200903007397665038

パターン検査方法、パターン検査装置およびマスクの製造方法

発明者：
奥田 健太郎

奥田 健太郎 について

, 
澤 英二

澤 英二 について

, 
井上 広

井上 広 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-088817
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287419
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 高精度なマスクのパターン検査方法とパターン検査装置、およびそれを用いたマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 比較手段6で参照データとセンサデータとを比較する際に、参照データは、測定が終了した隣接したパターンを予め定められたパターン条件により補正した補正値を用いる。
請求項（抜粋）：
被検査体のパターンの参照データとセンサデータとを比較手段で比較して該パターンの欠陥を検査するパターン検査方法において、前記比較手段で前記参照データと前記センサデータとを比較する際に、検査が終了した隣接するパターンから予め測定したパターン検査条件により補正した前期参照データを用いることを特徴とするパターン検査方法。
IPC (8件)：
G01B 21/30 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 7/00 300 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (9件)：
G01B 21/30 ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 S ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 7/00 300 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (56件)：
2F065AA03 ,  2F065AA22 ,  2F065AA46 ,  2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065CC20 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ38 ,  2F069AA03 ,  2F069AA31 ,  2F069AA49 ,  2F069AA53 ,  2F069AA60 ,  2F069BB15 ,  2F069CC06 ,  2F069DD16 ,  2F069GG07 ,  2F069GG72 ,  2F069JJ14 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051CA03 ,  2G051DA07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED08 ,  2G051ED11 ,  2G051ED15 ,  2H095BB01 ,  2H095BD04 ,  2H095BD27 ,  4M106AA01 ,  4M106BA10 ,  4M106CA39 ,  4M106DB20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC33 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096HA07 ,  5L096JA03
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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