特許
J-GLOBAL ID：200903096490599960

ガスハイドレート製造方法および製造装置

発明者：
幸田 和郎

幸田 和郎 について

, 
井田 博之

井田 博之 について


出願人/特許権者：
日本鋼管株式会社

日本鋼管株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162950
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356685
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 水中へのガス拡散・溶解と生成反応熱の除去を効率よく行うことができ、かつ装置を単純でコンパクトにできるガスハイドレートの製造方法および装置を得る。【解決手段】 原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水と原料ガスとをライン途中で混合して原料ガスを原料水に溶解させる混合・溶解工程と、混合・溶解されたものを反応管路に流しながら冷却してガスハイドレートを生成する工程とを備えた。反応管路を採用したことで、管路の周囲からの冷却が可能となり、装置の単純化、コンパクト化が実現できる。
請求項（抜粋）：
原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水と原料ガスとをライン途中で混合して原料ガスを原料水に溶解させる混合・溶解工程と、混合・溶解されたものを反応管路に流しながら冷却してガスハイドレートを生成する工程とを備えたことを特徴とするガスハイドレート製造方法。
IPC (6件)：
C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04
FI (6件)：
C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A
Fターム (8件)：
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD10 ,  4H006BD21 ,  4H006BD81 ,  4H006BE60
引用特許：
審査官引用 (2件)
引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 日本物理学会講演概要集, 20010903, 56(2-4),p.768

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