特許

J-GLOBAL ID：200903096497041310

酸化物焼結体

発明者： 岸 俊人 ,  高梨 昌二
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-043692
公開番号（公開出願番号）：特開平8-246139
出願日： 1995年03月03日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【構成】 インジウム、錫および酸素を主成分とする酸化物焼結体であって、インジウム、錫および酸素以外の不純物のうち、周期律表のIIIb族およびIVb族に属する元素の量が合計で50重量ppm以下であることを特徴とする酸化物焼結体。【効果】 スパッタリング中の異常放電回数がきわめて少なく、また長時間使用後においてもノジュールが発生しないITOターゲットを提供することができる。

請求項（抜粋）：

インジウム、錫および酸素を主成分とする酸化物焼結体において、インジウム、錫および酸素以外の不純物のうち、周期律表のIIIb族およびIVb族に属する元素の量が合計で50重量ppm以下であることを特徴とする酸化物焼結体。

IPC (5件)：

C23C 14/34 ,  C01G 19/00 ,  C04B 35/495 ,  C04B 35/457 ,  H01B 13/00 503

FI (5件)：

C23C 14/34 A ,  C01G 19/00 A ,  H01B 13/00 503 B ,  C04B 35/00 J ,  C04B 35/00 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-150252
  
• 粉砕・分散用メディアおよび高純度ITO原料の調製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-184542   出願人：同和鉱業株式会社, 同和ケミカル株式会社