特許

J-GLOBAL ID：200903096519113611

スル-ホ-ルの形成方法

発明者： 長谷川 利則 ,  石松 伸 ,  小出 純
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135658
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077824
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 レーザアブレーション中に加工物から反射するコヒーレントレーザー光を活用し、開口径の差の少ないスルーホールを容易に形成することができるスルホールの形成方法を提供する。【解決手段】 レーザー光を光源とし、フォトマスクを介して前記レーザー光を光学系を用いて加工対象に投影し、前記加工対象にレーザアブレーション加工によりスルーホールを形成するスルーホールの形成方法において、レーザアブレーション加工中に発生する前記加工対象からの反射光を用いて加工に寄与する光加工エネルギー密度を増加させることにより、先窄まりから先広がりに変化する形状を有するスルーホールを形成する。

請求項（抜粋）：

レーザー光を光源とし、フォトマスクを介して前記レーザー光を光学系を用いて加工対象に投影し、前記加工対象にレーザーアブレーション加工によりスルーホールを形成するスルーホールの形成方法において、レーザーアブレーション加工中に発生する前記加工対象からの反射光を用いて加工に寄与する光加工エネルギー密度を増加させることにより、レーザー光入射方向に関し手先窄まりから先広がりに変化する形状を有するスルーホールを形成することを特徴とするスルーホールの形成方法。

IPC (4件)：

H05K 3/00 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/135

FI (4件)：

H05K 3/00 N ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 J ,  B41J 3/04 103 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プリント基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-177109   出願人：日東電工株式会社
• 特開平2-187346
  
• 特開平2-187346