誘電体窓を用いたマイクロ波プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096628
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294548
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】 1Torr程度の高圧領域で処理を行う場合でも、大口径を均一に高速高品質処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波が透過可能な誘電体窓107を有するプラズマ処理室101と、被処理基体102支持手段と、該プラズマ処理室101内への処理用ガス導入手段105と、該プラズマ処理室101内を排気する排気106手段と、複数のスロットを有するマイクロ波導入手段とで構成されるプラズマ処理装置であって、該誘電体窓の該プラズマ処理室側の面は錐状であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マイクロ波が透過可能な誘電体窓を有するプラズマ処理室と被処理基体支持手段と、該プラズマ処理室内への処理用ガス導入手段と、該プラズマ処理室内を排気する排気手段と、複数のスロットを有するマイクロ波導入手段とで構成されるプラズマ処理装置であって、該誘電体窓の該プラズマ処理室側の面は錐状であることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , C23C 16/511 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (8件)：

H01L 21/31 C , C23C 16/44 J , C23C 16/511 , C23F 4/00 D , H01L 21/205 , H05H 1/46 B , H05H 1/46 C , H01L 21/302 B

Fターム (67件)：

4K030AA06 , 4K030AA18 , 4K030BA40 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030CA07 , 4K030DA08 , 4K030FA01 , 4K030KA46 , 4K030LA00 , 4K030LA02 , 4K030LA15 , 4K030LA24 , 4K057DA16 , 4K057DB01 , 4K057DB02 , 4K057DB03 , 4K057DB04 , 4K057DB05 , 4K057DB06 , 4K057DB08 , 4K057DC10 , 4K057DD01 , 4K057DE06 , 4K057DE07 , 4K057DE08 , 4K057DE09 , 4K057DE15 , 4K057DE20 , 4K057DG06 , 4K057DK03 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004AA15 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB28 , 5F004BC03 , 5F004BD01 , 5F004DA26 , 5F004DB26 , 5F045AA09 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AB06 , 5F045AB10 , 5F045AB31 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AB34 , 5F045AE13 , 5F045AE15 , 5F045AE17 , 5F045AE19 , 5F045AE21 , 5F045BB01 , 5F045EB02 , 5F045EC05 , 5F045EE20 , 5F045EF03 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH16 , 5F045EH19 , 5F045EK12 , 5F045EK17

引用特許：

審査官引用 (3件)

マイクロ波プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-132666 出願人：住友金属工業株式会社, ラムリサーチコーポレーション
プラズマ処理方法、プラズマ処理装置、半導体装置の製造方法及びマイクロ波分散板
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-101056 出願人：住友金属工業株式会社
環状導波路を有するマイクロ波供給器及びそれを備えたプラズマ処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-135100 出願人：キヤノン株式会社

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