含フッ素化合物とその高分子化合物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-279778
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083900
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】新規な含フッ素化合物及びそれを用いた高分子化合物を用い、高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に水酸基あるいはそれを修飾した官能基を持たせることで、真空紫外線から光通信波長域に至る波長領域で、高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性、耐久性を併せ持つ反射防止膜材料またはレジスト材料を提供する。【解決手段】一般式(1)で表される含フッ素化合物(式中、R1はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2、R3は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。lは0〜2の任意の整数を表し、m、nは1〜5の任意の整数を表し、m+n≦6を満たす。R1〜R3が複数の場合、R1〜R3はそれぞれ同一でも異なってもよい。)。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表される含フッ素化合物(式中、R1はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2、R3は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。lは0〜2の任意の整数を表し、m、nは1〜5の任意の整数を表し、m+n≦6を満たす。R1〜R3が複数の場合、R1〜R3はそれぞれ同一でも異なってもよい。)。

IPC (17件)：

C08F20/24 , C07C33/44 , C07C33/48 , C07C35/48 , C07C39/24 , C07C43/196 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C69/54 , C07C69/65 , C07C69/96 , C08F16/12 , G02B1/11 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/039 , G03F7/11

FI (17件)：

C08F20/24 , C07C33/44 , C07C33/48 , C07C35/48 , C07C39/24 , C07C43/196 , C07C43/225 C , C07C43/23 E , C07C69/54 B , C07C69/65 , C07C69/96 Z , C08F16/12 , G03F7/004 501 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , G03F7/11 503 , G02B1/10 A

Fターム (62件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC06 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 2K009AA04 , 2K009CC26 , 2K009DD02 , 4H006AA01 , 4H006AB46 , 4H006BJ20 , 4H006BJ30 , 4H006BJ50 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006BN10 , 4H006BP10 , 4H006FC22 , 4H006FC52 , 4H006FE11 , 4H006FE12 , 4H006FE13 , 4H006FE71 , 4H006FE74 , 4H006GN03 , 4H006GN21 , 4H006GP01 , 4H006GP02 , 4H006GP03 , 4H006GP10 , 4H006GP20 , 4H006KA06 , 4H006KE20 , 4J100AE18P , 4J100AL08P , 4J100AL26P , 4J100AL71P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA06P , 4J100BB18P , 4J100BC23P , 4J100BC27P , 4J100BC43P , 4J100JA32 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-149405 出願人：富士写真フイルム株式会社
含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、反射防止膜材料、レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-125505 出願人：セントラル硝子株式会社
含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-222530 出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

Reactions of polyfluoro carbonyl compounds with phenolates

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