特許
J-GLOBAL ID：200903037266693776

含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、反射防止膜材料、レジスト材料

発明者：
小森谷 治彦

小森谷 治彦 について

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角田 真一

角田 真一 について

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大谷 充孝

大谷 充孝 について

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前田 一彦

前田 一彦 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-125505
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238620
出願日： 2002年04月26日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に極性基を持たせることで、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、さらにはその高分子化合物を用いた反射防止用コーティング材料、レジスト材料を提供する。【解決手段】 一般式(1)【化1】(式中、R1、R2はCH3またはCF3を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフッ素化されたアルキル基、芳香環を有する環状体、または酸脱離基であって、酸素、カルボニル等の結合を含んでも良い。)で表される重合性単量体とその製造方法、それを用いて重合または共重合した高分子化合物、さらにそれを用いた反射防止材料またはレジスト材料。
請求項（抜粋）：
一般式(1)の構造を有する含フッ素重合性単量体(式中、R1、R2はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフッ素化されたアルキル基、芳香環を有する環状体、または酸脱離基であって、酸素原子、カルボニル結合を含んでも良い)。【化1】
IPC (9件)：
C08F 12/14 ,  C07C 29/58 ,  C07C 33/48 ,  C07C 41/24 ,  C07C 43/176 ,  C07C 68/00 ,  C07C 69/96 ,  G03F 7/033 ,  C07B 61/00 300
FI (9件)：
C08F 12/14 ,  C07C 29/58 ,  C07C 33/48 ,  C07C 41/24 ,  C07C 43/176 ,  C07C 68/00 Z ,  C07C 69/96 Z ,  G03F 7/033 ,  C07B 61/00 300
Fターム (59件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AC24 ,  4H006AC30 ,  4H006BA09 ,  4H006BA37 ,  4H006BA64 ,  4H006BA67 ,  4H006BE53 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006FC52 ,  4H006FE11 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74 ,  4H006GP01 ,  4H006KD10 ,  4H039CA10 ,  4H039CA20 ,  4H039CA53 ,  4H039CD10 ,  4H039CG20 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AC22Q ,  4J100AE09Q ,  4J100AE18R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AM02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100JA32 ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (6件)
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