特許
J-GLOBAL ID:200903096617472735

エッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-032677
公開番号(公開出願番号):特開2000-234186
出願日: 1999年02月10日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】 エッチングの作業性と品質とを向上できるエッチング装置を提供する。【解決手段】 化学薬品およびその混合液のエッチング液の入ったエッチング槽10の内部と外部に、エッチング槽10内のエッチング液の温度を一定に保つための内部冷却部16と外部冷却槽17を設ける。そして、内部冷却部16と外部冷却槽17によって、エッチング槽10内のエッチング液を所定の温度まで温度制御性よく短時間で冷却して、エッチング液の温度を安定させる。そして、所定温度に安定した温度分布の略均一なエッチング液により物体をエッチングする。
請求項(抜粋):
化学薬品およびその混合液であるエッチング液により物体をエッチングするエッチング装置において、上記エッチング液の入ったエッチング槽と、上記エッチング槽内の上記エッチング液の温度を一定に保つために、上記エッチング槽の内部と外部に設けられた冷却部とを有することを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件):
C23F 1/08 101 ,  H01L 21/306
FI (2件):
C23F 1/08 101 ,  H01L 21/306 J
Fターム (16件):
4K057WA10 ,  4K057WA11 ,  4K057WB11 ,  4K057WE23 ,  4K057WE25 ,  4K057WG02 ,  4K057WM03 ,  4K057WM17 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043AA14 ,  5F043BB07 ,  5F043EE03 ,  5F043EE10 ,  5F043EE22 ,  5F043EE40
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 電解加工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-039270   出願人:三菱重工業株式会社
  • 恒温装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-281414   出願人:三浦工業株式会社
  • 特開昭63-081932
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