特許
J-GLOBAL ID:200903096629809492

エアレーション温度の調整方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-360327
公開番号(公開出願番号):特開2004-189913
出願日: 2002年12月12日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】ポリオレフィンペレットの貯蔵されているサイロ毎、品種毎に所定のガス温度で脱モノマーおよび/または脱溶媒を行い、サイロまたは品種毎にかかるトラブルの発生を防止して、モノマーおよび溶媒の除去効率を上げ、同一装置列のサイロ群で多種のポリオレフィンペレットの処理が可能なサイロにおけるエアレーション温度の調製方法。【解決手段】下記工程を含むことを特徴とするサイロにおけるエアレーション温度の調整方法。第一工程:高温ガスと低温ガスをそれぞれ所定温度に制御する工程第二工程:複数の各サイロ毎に、前記高温ガスと低温ガスを混合して所定のガス温度に制御する工程第三工程:第二工程で調製した所定温度のガスを各サイロの下部に吹き込む工程【選択図】 図1
請求項(抜粋):
複数のサイロを有するポリオレフィン製造プロセスにおいて、ポリオレフィンペレットに残留する微量の未反応モノマーおよび/または溶媒を除去するに際し、下記工程を含むことを特徴とするサイロにおけるエアレーション温度の調整方法。 第一工程:高温ガスと低温ガスをそれぞれ所定温度に制御する工程 第二工程:複数の各サイロ毎に、前記高温ガスと低温ガスを混合して所定のガス温度に制御する工程 第三工程:第二工程で調製した所定温度のガスを各サイロの下部に吹き込む工程
IPC (1件):
C08F6/00
FI (1件):
C08F6/00
Fターム (4件):
4J100AA02P ,  4J100GC25 ,  4J100GC26 ,  4J100GC37
引用特許:
審査官引用 (8件)
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