特許
J-GLOBAL ID:200903096643695424

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-224995
公開番号(公開出願番号):特開平8-088164
出願日: 1994年09月20日
公開日(公表日): 1996年04月02日
要約:
【要約】【目的】 投影光学系に要求される精度に応じて最適な結像性能を維持する。【構成】 投影光学系PLの結像性能を維持するための、投影光学系の結像特性(焦点深度、像歪等)の変化や環境条件(照明光吸収量、大気圧、温度等)の変化が所定の基準値に到達した場合に、警告の表示や露光動作の停止が行われるが、本発明によれば、要求される結像性能の精度に応じて複数設定された基準値の中から最適なものが選択され、露光動作が制御されるので、不必要に露光動作が停止されスループットが停止するような事態を回避できる。
請求項(抜粋):
光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形してマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンの像を感光基板上に形成する投影光学系を備えた投影露光装置において:前記投影光学系に要求される結像性能及び要求される結像性能のうちの少なくとも1つに関する情報を入力する入力手段と;前記投影光学系の結像特性の変化とその結像特性に影響を与える環境条件の変化との少なくとも一方を検知する検知手段と;前記検知手段により検知された結像特性の変化と環境条件の変化との少なくとも一方が、それぞれの変化に応じて設定された基準値に到達した場合に、警告の表示と露光動作の停止との少なくとも1つを行う露光動作制御手段と;前記基準値は複数設定されており、前記入力手段に入力された結像性能と結像性能に関する情報との少なくとも一方に応じて前記複数の基準値の1つを選択する選択手段とを備えたことを特徴とする、投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 516 E
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平3-225812
  • 投影露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-237162   出願人:株式会社ニコン
  • 投影光学装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-146367   出願人:株式会社ニコン
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