特許

J-GLOBAL ID：200903096650547449

導波路型光増幅素子の製造方法

発明者： 岡部 豊 ,  小岩 一郎
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-230542
公開番号（公開出願番号）：特開平11-068206
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】 引き上げ法では、希土類元素を均一にかつ高濃度に添加することが困難であり、熱拡散法では希土類元素の拡散に時間がかかり、またニオブ酸リチウムの結晶性を乱すために光損傷を大きくしていた。【解決手段】 ゾル-ゲル法により、基板11上に希土類元素が添加された化学組成式LiNbO3 で表されるニオブ酸リチウム膜(例えばEr添加ニオブ酸リチウム膜12)を形成する導波路型光増幅素子の製造方法である。上記希土類元素添加ニオブ酸リチウム膜は、有機酸リチウムとアルコキシドニオブとアルコキシドランタニド(またはアルコキシドアクチニド)とを用いて希土類元素添加ニオブ酸リチウムの前駆体の溶液を作製し、その前駆体溶液を希釈した塗布溶液を基板11上に塗布した後、その塗膜を加熱焼成し、この塗布工程と加熱焼成工程を繰り返すことによって形成される。

請求項（抜粋）：

ゾル-ゲル法により、基板上に希土類元素が添加された化学組成式がLiNbO3 で表されるニオブ酸リチウム膜を形成することを特徴とする導波路型光増幅素子の製造方法。

IPC (4件)：

H01S 3/10 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  H01S 3/16

FI (4件)：

H01S 3/10 Z ,  H01S 3/16 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光導波路型素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-100726   出願人：松下電器産業株式会社
• 非線形光学薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-353922   出願人：土谷敏雄, ティーディーケイ株式会社