特許

J-GLOBAL ID：200903096728708878

フォトマスク、このフォトマスクを用いた露光装置のフレア測定方法及びマスクパターンの補正方法

発明者： 渡辺 由美
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-130972
公開番号（公開出願番号）：特開2008-288338
出願日： 2007年05月16日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：

【課題】露光装置内におけるフレアの方向依存性を知ることができ、フレア要因の解明や寸法のXYライン方向差をリソグラフィ設計で補正できる評価用フォトマスクを提供する。【解決手段】フォトマスクは、露光光を透過する材料からなる基板10Aと、前記基板に前記露光光を遮光する材料を用いて形成され、少なくとも一対のバー状透過領域11A-1,11A-2が遮光小領域12SAを挟んで一方向に配置されたパターンを1つの単位とし、前記遮光小領域を中心にして前記バー状透過領域が異なる角度に回転された複数のパターンが配置された遮光層12Aとを具備する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光光を透過する材料からなる基板と、 前記基板に前記露光光を遮光する材料を用いて形成され、少なくとも一対のバー状透過領域が遮光小領域を挟んで一方向に配置されたパターンを1つの単位とし、前記遮光小領域を中心にして前記バー状透過領域が異なる角度に回転された複数のパターンが配置された遮光層と を具備することを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

H01L21/30 516C ,  H01L21/30 531M ,  G03F7/20 521 ,  G03F1/08 A

Fターム (9件)：

2H095BA02 ,  2H095BA10 ,  2H095BD03 ,  5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01 ,  5F046GA03 ,  5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フォトマスク、フレア測定機構、フレア測定方法、及び、露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-085281   出願人：株式会社半導体先端テクノロジーズ