特許

J-GLOBAL ID：200903096848427554

炭素ナノ構造体の分散方法

発明者： 李 永煕 ,  安 啓▲ひょく▼ ,  鄭 京澤 ,  趙 碩顯
出願人/特許権者： 三星コーニング株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-159946
公開番号（公開出願番号）：特開2004-352608
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】炭素ナノ構造体を分散させるための改善された方法の提供。【解決手段】炭素ナノ構造体の表面を含フッ素ガスでフッ素化処理し、フッ素化処理された炭素ナノ構造体を溶媒中に分散させる。本発明に従って得られた炭素ナノ構造体分散液は様々な産業分野において有用である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

炭素ナノ構造体の表面を含フッ素ガスでフッ素化処理し、フッ素化処理された炭素ナノ構造体を溶媒中に分散させることを含む、炭素ナノ構造体の分散方法。

IPC (2件)：

C01B31/02 ,  B82B3/00

FI (2件)：

C01B31/02 101F ,  B82B3/00

Fターム (9件)：

4G146AA11 ,  4G146AC03B ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146AD37 ,  4G146BA04 ,  4G146CB13 ,  4G146CB22 ,  4G146CB32

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 韓国特許公開第2002-77506号
  

審査官引用 (2件)

• フッ素化フラーレンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-200212   出願人：出光興産株式会社
• 溶媒和を容易にするための単層カーボンナノチューブの化学的誘導体化及び誘導体化ナノチューブの使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-574020   出願人：ウィリアム・マーシュ・ライス・ユニバーシティ