特許
J-GLOBAL ID:200903096922085997

窒素ガスの製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-383290
公開番号(公開出願番号):特開2004-196640
出願日: 2002年12月17日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
【課題】PAS方式の場合、装置が大形となり、電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があった。 また、純度に関しても、深冷分離方式のように99.999%以上を常に確保することは困難であった。 また、膜分離方式の場合、窒素純度は95〜99.9%程度となるため、高純度のニーズには適しなかった。更に、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高純度の窒素が得られるが、大規模な設備が必要であった。【解決手段】圧縮空気を送り込むことで窒素ガスを作り出すPSA方式による窒素ガスの発生装置40と、窒素ガスを高純度にする目的で不純物として含まれている酸素と反応する鉄粉を充填した酸素吸収装置60を配設した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
圧縮空気からPSA方式で窒素ガスを作り出し、前記窒素ガスを鉄粉に接触させることで酸化鉄としそれによって窒素ガス中の酸素を減少させることで純度の高い窒素ガスを作ることを特徴とする窒素ガスの製造方法。
IPC (3件):
C01B21/04 ,  B01D53/04 ,  B01D53/14
FI (3件):
C01B21/04 D ,  B01D53/04 B ,  B01D53/14 B
Fターム (14件):
4D012CA06 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CE01 ,  4D012CF02 ,  4D012CH01 ,  4D012CH10 ,  4D020AA02 ,  4D020BA04 ,  4D020BA30 ,  4D020BB01 ,  4D020CA05 ,  4D020CD02 ,  4D020CD03
引用特許:
審査官引用 (3件)

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