特許

J-GLOBAL ID：200903096927968552

情報記録媒体又はその基体若しくはそのマスタリング原盤の製造方法、並びにこれらの製造装置

発明者： 増原 慎 ,  黒川 光太郎 ,  柏木 俊行
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-180741
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031019
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【構成】 ガラス原盤11上にフォトレジスト層20を形成し、このフォトレジスト層のスパイラル状の領域を露光し、この露光後に現像してフォトレジスト層20にプリグルーブと称される連続溝13を所定パターンに形成し、この連続溝に基いて情報の記録及び/又は再生に関与するグルーブをプラスチック製のディスク基板に形成する際に、フォトレジスト層20の現像時に、現像領域にレーザ光21を照射して1次回折光を検出し、この検出される1次回折光量の時間微分値I’(t)がほぼゼロとなったときに、前記現像を停止するようにした方法とその装置。【効果】 あらゆる深さのグルーブに対して、その幅を1回のマスタリングプロセスで任意の幅に効率良くかつ精度良く制御することを可能にする、光磁気ディスク又はその基盤若しくはマスタリングガラス原盤の製造方法、並びにこれらの製造装置を提供することができる。

請求項（抜粋）：

支持体上に感光層を形成する工程と、この感光層の所定領域を露光する工程と、この露光後に現像して前記感光層に凹凸を所定パターンに形成する工程と、この凹凸に基いて情報の記録及び/又は再生に関与する凹凸を基体に形成する工程とを有する、情報記録媒体又はその基体若しくはそのマスタリング原盤の製造方法において、前記感光層の現像時に、現像領域に光を照射してn次回折光(但し、n≧1)を検出し、この検出されるn次回折光量の時間微分値がほぼゼロとなったときに、前記現像を停止することを特徴とする製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 11/10 541

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-071272
  
• 特開平3-280232
  
• 光記録ディスク原盤のピット現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-169018   出願人：東芝イーエムアイ株式会社