特許
J-GLOBAL ID:200903096996517570

回折光学素子とその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-050510
公開番号(公開出願番号):特開2004-258442
出願日: 2003年02月27日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】実用的な回折光学素子を効率的に低コストで提供する。【解決手段】屈折率変調型回折光学素子は、透光性基板(1)上に形成されたシリコンまたはシリコン化合物の透光性膜(2)を含み、この透光性膜(2)は相対的に高屈折率の局所的領域(2a)と相対的に低屈折率の局所的領域(2)が交互に配置された回折格子を含んでおり、それらの高屈折率領域(2a)と低屈折率領域(2)との間には5%より大きい屈折率差が存在している。そのような屈折率差は、シリコンまたはシリコン化合物の透光性膜(2)にエネルギビーム(4)を照射することによって容易に形成することができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
シリコンまたはシリコン化合物からなる透光性の膜または薄板を含み、この透光性の膜または薄板は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域とが交互に配置された回折格子を含み、それらの高屈折率領域と低屈折率領域との間には5%より大きい屈折率差が存在することを特徴とする回折光学素子。
IPC (3件):
G02B5/18 ,  G02B5/30 ,  G02B6/293
FI (3件):
G02B5/18 ,  G02B5/30 ,  G02B6/28 D
Fターム (14件):
2H049AA02 ,  2H049AA06 ,  2H049AA12 ,  2H049AA33 ,  2H049AA44 ,  2H049AA53 ,  2H049AA59 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA45 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BC08 ,  2H049BC25
引用特許:
審査官引用 (5件)
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