特許

J-GLOBAL ID：200903097111515238

露光装置及びその制御方法、デバイスの製造方法、コンピュータ可読メモリ、プログラム

発明者： 森本 修
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-291854
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100604
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 露光装置において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、補正パラメータに基づいて原版のパターンを位置合わせする位置合わせの精度を落とすことなく、スループットを向上させる。【解決手段】 ショット補正パラメータの自動計測を行うかどうかを判断し(S602)、計測を行う場合にのみ、ショット補正パラメータの自動計測を行うことで処理を減らす(S603)。その後、ウエハ補正パラメータの自動計測を行い(S604)、ショット補正パラメータの自動計測を行ったかどうかに応じて、ショット補正パラメータとウエハ補正パラメータとの相対パラメータδを算出するか(S606)、記憶してある相対パラメータδ及びウエハ補正パラメータからショット補正パラメータを算出するか(S607)を判断することで、位置合わせの精度を保つ(S605)。得られたショット補正パラメータとウエハ補正パラメータとに応じて、装置ユニットを駆動し(S608)、露光する(S609)。

請求項（抜粋）：

基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して補正パラメータに基づいて原版のパターンを位置合わせして露光処理を実行する露光装置であって、露光対象の複数の基板のうち第1群の基板について、基板上のマークの位置を計測し、その計測結果に基づいて、前記第1群の基板上の複数のショット領域の形状誤差を補正するためのショット補正パラメータを決定する第1の決定部と、露光対象の複数の基板の全てについて、基板上の複数のショット領域の配列誤差を補正するための基板補正パラメータを決定する第2の決定部と、前記第1の決定部によって決定されたショット補正パラメータと前記第2の決定部によって決定された基板補正パラメータとに基づいて、前記露光対象の複数の基板のうち前記第1群の基板以外の第2群の基板についてのショット補正パラメータを決定する第3の決定部と、を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 21/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G01B 11/00

FI (4件)：

G01B 21/00 D ,  G03F 7/20 521 ,  G01B 11/00 C ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (37件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA39 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065FF67 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR09 ,  2F069AA03 ,  2F069AA17 ,  2F069BB15 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG75 ,  2F069MM03 ,  2F069MM24 ,  2F069NN25 ,  2F069NN26 ,  5F046BA04 ,  5F046DA13 ,  5F046DD06 ,  5F046EB01 ,  5F046EB06 ,  5F046ED01 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-275906   出願人：ソニー株式会社
• 特開平4-107465
  
• 特開平3-096219