特許
J-GLOBAL ID:200903097175400140

オゾンを用いた除染方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉岡 宏嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-295916
公開番号(公開出願番号):特開2003-098294
出願日: 2001年09月27日
公開日(公表日): 2003年04月03日
要約:
【要約】【課題】 除染に伴なう二次廃棄物が出ない、低コストで簡便な除染方法を提供する。【解決手段】 液体オゾンを気化させ、気化したオゾンを再循環ポンプ3よりも上流側の再循環ライン2に注入して炉水に溶解させてオゾン水を形成し、このオゾン水を原子炉再循環系で流動させて、金属表面に付着する放射能を低減する。
請求項(抜粋):
放射性核種に汚染された金属の表面から放射性核種を除去する除染法において、液体オゾンからオゾンガスを気化させ、このオゾンガスを溶解させたオゾン水を前記金属の汚染面に接触させることにより、前記金属の表面から前記放射性核種を含む付着物を除去することを特徴とするオゾンを用いた除染方法。
IPC (5件):
G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 521 ,  G21F 9/28 ,  G21F 9/28 571 ,  C02F 1/42
FI (7件):
G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/28 521 A ,  G21F 9/28 521 D ,  G21F 9/28 525 A ,  G21F 9/28 525 Z ,  G21F 9/28 571 D ,  C02F 1/42 G
Fターム (6件):
4D025AA09 ,  4D025AB02 ,  4D025AB39 ,  4D025BA07 ,  4D025BB01 ,  4D025DA02
引用特許:
審査官引用 (5件)
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