特許

J-GLOBAL ID：200903097179697644

フォトマスク

発明者： 石田 伸二 ,  安里 直生
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-042402
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236904
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【目的】 焦点深度を拡大して膜減りや膜消滅を防止する。【構成】 透明基板1上に、周期性のあるパターンを形成するが、最外周のパターンをハーフトーンパターン13とし、それ以外を遮光パターン12とする。具体的には、ハーフトーンパターン13は半透明膜3により、遮光パターン12は、半透明膜3と遮光膜2との積層膜によって形成される。半透明膜の位相シフト量を180度にする。

請求項（抜粋）：

透明基板上に周期性を有するマスクパターンが形成されたフォトマスクにおいて、前記周期パターンの外周部のパターンを半透明パターン、それ以外のパターンを遮光パターンとし、かつ前記半透明パターンはこれを透過する光に透過しない光に対し所定の位相差を生じさせるものであることを特徴とするフォトマスク。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光用原図基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-085184   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平4-162039
  
• 特開平2-207252