臨界寸法を制御する方法と装置

発明者：
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-199560
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044096
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】データベースを利用し、テストウェハーの反射率を測定するだけで、全ロットのウェハーに対するフォトリソグラフィーを実施できるようにする。【解決手段】臨界寸法と反射率との関係をデータベースとして構築してコンピューターに保存しておき、フォトリソグラフィーを行う時に、ロット全体のウェハーの中から1枚をテストウェハーとして取り出して、テストウェハーの反射率を測定し、その測定値をコンピューターに入力して、コンピュータープログラムにより対応する臨界寸法を算出するとともに、その臨界寸法に対応する最適な露光エネルギー量をデータベースから探し出して、ロット全体のウェハーに対して最適な露光エネルギー量でフォトリソグラフィーを行う。

請求項（抜粋）：

異なる露光エネルギー量における反射率ならびに臨界寸法の関係についてのデータベースを構築するステップと、1ロットのウェハーから1枚のテストウェハーを取り出して、このテストウェハーの反射率を測定するステップと、前記テストウェハーの反射率および前記データベースを対照するステップと、臨界寸法を前記反射率により設定し、前記テストウェハーから得られた反射率を前記データベースに照合して、最適な露光エネルギー量を探し出し、前記ロットのウェハーに対するフォトリソグラフィー工程を実施するステップと、を具備する臨界寸法を制御する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 D , G03F 7/20 521

Fターム (5件)：

5F046AA18 , 5F046DA02 , 5F046DB01 , 5F046DB05 , 5F046DB11

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-231706
特開昭63-284811
特開昭63-143816

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