特許
J-GLOBAL ID:200903097258415913

めっき基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 布施 行夫 ,  大渕 美千栄 ,  伊奈 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-176371
公開番号(公開出願番号):特開2008-007800
出願日: 2006年06月27日
公開日(公表日): 2008年01月17日
要約:
【課題】微細パターンを精度良く形成するめっき基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明にかかるめっき基板の製造方法は、基板上の所定のパターン以外の領域に触媒層を設ける工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて所定のパターンの金属層を設ける工程と、基板を水蒸気に曝す工程と、無電解めっき液に基板を浸漬することにより、第1の金属層上にさらに金属を析出させて第2の金属層を設ける工程と、を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
無電解めっき法によりめっき基板を製造する方法であって、 (a)基板上の所定のパターン以外の領域に触媒層を設ける工程と、 (b)無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて前記所定のパターンの金属層を設ける工程と、 (c)前記基板を水蒸気に曝す工程と、 (d)無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、前記第1の金属層上にさらに金属を析出させて第2の金属層を設ける工程と、 を含む、めっき基板の製造方法。
IPC (5件):
C23C 18/52 ,  C23C 18/18 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/24 ,  H05K 3/26
FI (6件):
C23C18/52 B ,  C23C18/18 ,  H05K3/18 E ,  H05K3/24 A ,  H05K3/26 A ,  H05K3/18 B
Fターム (32件):
4K022AA03 ,  4K022AA05 ,  4K022AA13 ,  4K022AA15 ,  4K022AA20 ,  4K022AA42 ,  4K022AA43 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA31 ,  4K022BA35 ,  4K022BA36 ,  4K022CA03 ,  4K022CA06 ,  4K022CA08 ,  4K022CA21 ,  4K022CA26 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  5E343AA02 ,  5E343AA15 ,  5E343AA16 ,  5E343BB44 ,  5E343BB71 ,  5E343DD33 ,  5E343DD34 ,  5E343EE02 ,  5E343EE12 ,  5E343ER05 ,  5E343GG08
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る