特許
J-GLOBAL ID:200903097258415913
めっき基板の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
布施 行夫
, 大渕 美千栄
, 伊奈 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-176371
公開番号(公開出願番号):特開2008-007800
出願日: 2006年06月27日
公開日(公表日): 2008年01月17日
要約:
【課題】微細パターンを精度良く形成するめっき基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明にかかるめっき基板の製造方法は、基板上の所定のパターン以外の領域に触媒層を設ける工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて所定のパターンの金属層を設ける工程と、基板を水蒸気に曝す工程と、無電解めっき液に基板を浸漬することにより、第1の金属層上にさらに金属を析出させて第2の金属層を設ける工程と、を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
無電解めっき法によりめっき基板を製造する方法であって、
(a)基板上の所定のパターン以外の領域に触媒層を設ける工程と、
(b)無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて前記所定のパターンの金属層を設ける工程と、
(c)前記基板を水蒸気に曝す工程と、
(d)無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、前記第1の金属層上にさらに金属を析出させて第2の金属層を設ける工程と、
を含む、めっき基板の製造方法。
IPC (5件):
C23C 18/52
, C23C 18/18
, H05K 3/18
, H05K 3/24
, H05K 3/26
FI (6件):
C23C18/52 B
, C23C18/18
, H05K3/18 E
, H05K3/24 A
, H05K3/26 A
, H05K3/18 B
Fターム (32件):
4K022AA03
, 4K022AA05
, 4K022AA13
, 4K022AA15
, 4K022AA20
, 4K022AA42
, 4K022AA43
, 4K022BA03
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA18
, 4K022BA31
, 4K022BA35
, 4K022BA36
, 4K022CA03
, 4K022CA06
, 4K022CA08
, 4K022CA21
, 4K022CA26
, 4K022DA01
, 4K022DB02
, 5E343AA02
, 5E343AA15
, 5E343AA16
, 5E343BB44
, 5E343BB71
, 5E343DD33
, 5E343DD34
, 5E343EE02
, 5E343EE12
, 5E343ER05
, 5E343GG08
引用特許:
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