特許

J-GLOBAL ID：200903097295683111

レジスト材料及び微細加工方法

発明者： 河内山 彰 ,  荒谷 勝久
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-297893
公開番号（公開出願番号）：特開2003-315988
出願日： 2002年10月10日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 電子ビームやイオンビーム等の高価な照射装置を用いることなく、分解能の高い微細加工を実現する。すなわち、既存の露光装置を利用してさらなる極微細加工を実現する。【解決手段】 WやMoのような遷移金属の不完全酸化物を含んでなるレジスト層を選択的に露光し、現像して所定の形状にパターニングする。ここでいう遷移金属の不完全酸化物とは、遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成より酸素含有量が少ない方向にずれた化合物のこと、すなわち遷移金属の不完全酸化物における酸素の含有量が、上記遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さい化合物のことである。

請求項（抜粋）：

遷移金属の不完全酸化物を含むレジスト材料であって、該不完全酸化物は、酸素の含有量が前記遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さいものであることを特徴とするレジスト材料。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (10件)：

2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BB03 ,  2H025EA06 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 可視トラッキング層を備えた金属薄膜リソグラフ印刷部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-199397   出願人：プレステク,インコーポレイテッド
• 特開平3-110563
  
• パタ-ン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-307703   出願人：日本電信電話株式会社