特許
J-GLOBAL ID:200903097361277502
誘電性CMPスラリーにおけるCsOHの使用
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-535478
公開番号(公開出願番号):特表2003-514061
出願日: 2000年10月31日
公開日(公表日): 2003年04月15日
要約:
【要約】砥粒および水酸化セシウムを含有する化学的機械研摩用組成物、ならびに水酸化セシウム含有研摩用組成物を用いて集積回路に関連する誘電体層を研摩する方法。
請求項(抜粋):
フュ-ムド砥粒ならびに約0.01〜約5.0wt%の少なくとも1つのCs+塩基性塩からなる化学的機械研摩用組成物。
IPC (6件):
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, B24B 37/00
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
FI (6件):
C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
, B24B 37/00 H
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622 D
, H01L 21/304 622 X
Fターム (8件):
3C047FF08
, 3C047GG20
, 3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058CB02
, 3C058DA02
, 3C058DA12
引用特許:
審査官引用 (3件)
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研磨用スラリー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-131833
出願人:昭和キャボットスーパーメタル株式会社
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特開平2-006586
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特開平2-158684
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