塩素の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026493
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281314
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】塩化水素を酸化して塩素を製造する方法であって、活性の高い触媒を使用し、より少量の触媒でより低い反応温度で塩素を製造可能な塩素の製造方法を提供する。【解決手段】ルテニウム化合物を担体に担持し、これを液相で還元処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウムであって、担体の単位重量当り、OH基量を0.1×10-4〜30×10-4(mol/g-担体)含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒を使用することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

塩化水素を酸素によって酸化して塩素を製造する方法であって、次の(1)から(9)の中から選ばれるいずれか1つの触媒を用いる塩素の製造方法。(1)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを塩基性化合物で処理する工程及び還元性化合物で処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(2)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを還元剤で処理する工程を含み、一旦酸化数1価以上4価未満のルテニウムとした後、酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(3)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを還元性水素化化合物で還元し、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(4)ルチル結晶系の酸化チタンを含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒(5)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを液相で還元処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウムであって、担体の単位重量当り、OH基量を0.1×10-4〜30×10-4(mol/g-担体)含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒(6)触媒系が、少なくとも下記の(A)及び(B)を含有し、該触媒系における(B)の含有量が10重量%以上である触媒系(A):触媒活性成分(B):200〜500°Cの範囲の少なくとも一点において測定される固相の熱伝導度が4W/m・°C以上である化合物成分(7)細孔半径が0.03マイクロメートルから8マイクロメートルのマクロ細孔である細孔を有する担持酸化ルテニウム触媒(8)担体の外表面に酸化ルテニウムを担持した外表面担持触媒(9)担体に酸化クロムを用いた担持ルテニウム触媒

IPC (2件)：

C01B 7/04 , B01J 23/46 301

FI (2件)：

C01B 7/04 A , B01J 23/46 301 M

Fターム (29件)：

4G069AA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA01A , 4G069BA01B , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BC58A , 4G069BC58B , 4G069BC70A , 4G069BC70B , 4G069BD12C , 4G069CB81 , 4G069DA06 , 4G069EA01Y , 4G069EA04Y , 4G069EB18Y , 4G069EC15X , 4G069EC16X , 4G069EC17X , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069ED10 , 4G069FA02 , 4G069FB39 , 4G069FB45 , 4G069FB46

引用特許：

審査官引用 (7件)

塩素の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-116290 出願人：住友化学工業株式会社
排気ガス浄化用触媒装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-205031 出願人：日産自動車株式会社, カルソニック株式会社
特開平4-226932

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