特許

J-GLOBAL ID：200903097438356320

基板用ガラス、それを用いたセラミック基板

発明者： 長谷川 浩昭 ,  宮越 俊伸
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-337444
公開番号（公開出願番号）：特開平9-295827
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、化学的に安定なホウケイ酸ガラスの組成物およびそのガラスを含有したセラミック基板およびその製造方法を提供するものである。【解決手段】 酸化ケイ素をSiO2 に換算して55〜67 mol%、酸化アルミニウムをAl2 O3 に換算して3〜11 mol%、酸化ホウ素をB2 O3 に換算して16〜26 mol%ならびに酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウムおよび酸化亜鉛のうちの少なくとも1種以上をそれぞれSrO,CaO,MgO,ZnOに換算して総計3〜11 mol%を含有する基板用ガラスとした。この基板用ガラスはオルトホウ酸の生成量が少なく、セラミック基板を作成する上で、製造上の不都合を生じない。また、この基板用ガラスを用いたセラミック基板は低温で焼結でき、さらに低比誘電率、低誘電正接および高抗折強度をもつ。

請求項（抜粋）：

酸化ケイ素をSiO2 に換算して55〜67 mol%、酸化アルミニウムをAl2 O3 に換算して3〜11 mol%、酸化ホウ素をB2 O3 に換算して16〜26 mol%ならびに酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウムおよび酸化亜鉛のうちの少なくとも1種以上を、それぞれSrO,CaO,MgO,ZnOに換算して総計3〜11 mol%を含有する基板用ガラス。

IPC (3件)：

C03C 3/091 ,  C04B 35/16 ,  H05K 1/03 610

FI (3件)：

C03C 3/091 ,  H05K 1/03 610 D ,  C04B 35/16 Z

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平1-201041
  
• 特開平4-325436
  
• 低温焼成基板用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-350111   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 液晶ディスプレイ基板用ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-038279   出願人：ホーヤ株式会社
• 絶縁体基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-351046   出願人：日本セメント株式会社
• 特開昭58-151345