特許

J-GLOBAL ID：200903097480593900

スピンコ-タの制御システム

発明者： 佐藤 明夫
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003472
公開番号（公開出願番号）：特開2000-197847
出願日： 1999年01月08日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 ノズルから発生するサテライトおよび基板の高速回転に伴う塗布液の振り切りによって発生するミストによる塗布膜欠陥や塗布ムラの発生を防止しつつ成膜処理できるスピンコータの制御システムを提供する。【解決手段】 スピンコータ1は、回転機構3の主軸に保持された基板2の上面にノズル4から塗布液を滴下し、回転機構3を作動させて基板2を高速回転させることにより塗布処理を行う。排気装置30は、排気管10を通してスピンコータ1の処理室8内を排気する。塗布コントローラ22は、塗布液供給装置20がノズル4より塗布液を吐出させている時は、排気装置30の駆動を停止させて、処理室8内をほとんど無風状態とし、基板2を高速回転させて塗布膜を形成する際には、排気装置30を駆動させて、処理室8内に必要な風速のダウンフローを形成するように制御する。

請求項（抜粋）：

被処理体を水平に保持して回転させる回転機構と、当該回転機構に保持された前記被処理体の上面に塗布液を滴下するためのノズルと、当該ノズルから塗布液を吐出させる塗布液供給装置と、前記回転機構に保持された前記被処理体を収容する上部が開放され底部に排気口を有するハウジングと、当該ハウジング内を前記排気口から排気する排気装置とを備え、前記回転機構に保持された前記被処理体の上面に塗布液を滴下し、前記回転機構を作動させて当該被処理体を高速回転させることにより、その回転に伴う遠心力によって当該被処理体の外周側に塗布液を拡張離散させて、当該被処理体の上面に塗膜を形成するスピンコータにおいて、前記排気装置の動作を、前記塗布液供給装置の動作に合わせて制御するコントローラを備えたことを特徴とするスピンコータの制御システム。

IPC (3件)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (14件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  4F042AA06 ,  4F042BA05 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042BA13 ,  4F042CC01 ,  4F042CC24 ,  4F042EB24 ,  4F042EB29 ,  5F046JA08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-268866
  
• 回転式基板塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-173287   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-268866