特許
J-GLOBAL ID：200903097494107570

凹凸像形成装置及び電子線分析装置

発明者：
丹羽 直昌

丹羽 直昌 について

, 
青島 利裕

青島 利裕 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について

, 
東陶機器株式会社

東陶機器株式会社 について


代理人 (1件)： 竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-401224
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203507
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：
【要約】【課題】 定量的な凹凸像を求める凹凸像作成装置を提供し、定量的な凹凸像によって正確な高さ補正を行う電子線分析装置を提供する。【解決手段】 複数の反射電子検出器2aと、反射電子検出器から得られる反射電子信号の強度分布から試料表面上の法線ベクトルを求める手段2と、試料表面上の基準点における高さを求める手段3と、試料表面の定量的な凹凸像を求める手段4とを備えた構成とし、指向性の高い反射電子を用いて試料表面上で局所的な法線ベクトルを求め、この法線ベクトルと基準位置の高さデータを基にして試料表面の定量的な凹凸像を作成し、求めた定量的凹凸像を用いて正確な高さ補正を行う。
請求項（抜粋）：
複数の反射電子検出器と、該反射電子検出器から得られる反射電子信号の強度分布から試料表面上の法線ベクトルを求める手段と、試料表面上の基準点における高さを求める手段と、試料表面の定量的な凹凸像を求める手段とを備え、前記定量的凹凸像を求める手段は、試料表面上の各点における法線ベクトルによって順次求めた試料表面の凹凸形状と、基準点における高さとに基づいて試料表面の定量的な凹凸像を求めることを特徴とする、凹凸像作成装置。
IPC (8件)：
H01J 37/252 ,  G01B 15/00 ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/28
FI (8件)：
H01J 37/252 A ,  G01B 15/00 B ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/20 D ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/28 B
Fターム (35件)：
2F067AA23 ,  2F067AA45 ,  2F067FF13 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK08 ,  2F067LL00 ,  2F067LL16 ,  2F067PP12 ,  2F067RR30 ,  2F067TT01 ,  2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA08 ,  2G001HA13 ,  2G001KA01 ,  2G001KA20 ,  2G001MA10 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  5C001AA04 ,  5C001CC04 ,  5C001CC05 ,  5C033NN02 ,  5C033NP06 ,  5C033PP02 ,  5C033PP04 ,  5C033PP05 ,  5C033UU03 ,  5C033UU04 ,  5C033UU05
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開平2-061953
  • 電子線分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-162282   出願人：株式会社島津製作所
  • 走査型電子顕微鏡装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-270927   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
審査官引用 (3件)
  • 特開平2-061953
  • 電子線分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-162282   出願人：株式会社島津製作所
  • 走査型電子顕微鏡装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-270927   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ

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