特許

J-GLOBAL ID：200903055158315690

電子線分析装置

発明者： 丹羽 直昌
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-162282
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346815
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 試料面の局所的な曲面の変化に伴う検出器出力の変化を補正し、正確な検出出力を得る。【解決手段】 試料の表面形状データから求めた試料分析点における法線方向を用いて、検出器出力を補正する補正データを算出する補正データ算出手段13と、算出した補正データを用いて検出器出力を補正する補正手段14とを備え、試料面上の分析点におけるX線の放出特性に基づいてX線感度を補正し、試料面の局所的な曲面の変化にかかわらず正確なX線分析結果を得る。

請求項（抜粋）：

試料の表面形状データから求めた試料分析点における法線方向を用いて検出器出力を補正する補正データを算出する補正データ算出手段と、前記補正データを用いて検出器出力を補正する補正手段とを備える、電子線分析装置。

IPC (4件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/252

FI (4件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/252 A

Fターム (15件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001FA06 ,  2G001FA11 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA01 ,  2G001KA01 ,  5C033PP02 ,  5C033PP04 ,  5C033PP05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭63-142247
  
• X線分析方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-091034   出願人：株式会社日立製作所
• スパッタリングによる試料表面の深さ方向分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-170858   出願人：川崎製鉄株式会社

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-142247