特許

J-GLOBAL ID：200903097512651797

セラミックスの光学的成形法

発明者： 中村 好男 ,  松尾 秀逸
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 赤野 牧子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-254376
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091940
出願日： 1994年09月21日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 所定の成形型を要することなく所望形状で成形が可能であり、また、成形後の後加工も最小限に抑えることができるセラミックス成形法の提供。【構成】 (a)セラミックス粉末100重量部、光硬化性を有する結合剤0.5〜50重量部及び溶媒0〜10重量部を含有してなるスラリーを調製する工程、(b)前記スラリーを用い所定厚さのセラミックスラリー層を形成し、光照射して、該スラリー層を硬化させてセラミック硬化層とする工程、及び(c)前記(b)工程で得られたセラミック硬化層上に、前記(b)工程と同様の操作を連続的に所定回数繰返して行う工程により所定形状にセラミック硬化層を順次積層してセラミックス立体形状体を形成することを特徴とするセラミックスの光学的成形法。

請求項（抜粋）：

(a)セラミックス粉末100重量部、光硬化性を有する結合剤0.5〜50重量部及び溶媒0〜10重量部を含有してなるスラリーを調製する工程、(b)前記スラリーを用い所定厚さのセラミックスラリー層を形成し、光照射して、該スラリー層を硬化させてセラミック硬化層とする工程、及び(c)前記(b)工程で得られたセラミック硬化層上に、前記(b)工程と同様の操作を連続的に所定回数繰返して行う工程を有して構成され、前記セラミック硬化層を所定形状に順次積層してセラミックス立体形状体を成形することを特徴とするセラミックスの光学的成形法。

IPC (2件)：

C04B 35/622 ,  C04B 35/632

FI (2件)：

C04B 35/00 E ,  C04B 35/00 108

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-099203
  
• セラミックスの光学的成形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-144318   出願人：東芝セラミックス株式会社
• セラミック複合材スラリー及びその成形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-164465   出願人：東芝セラミックス株式会社
• 特開平4-099203