特許
J-GLOBAL ID:200903097534263189
ガス供給ノズル及びラジカル反応式精密加工装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-140536
公開番号(公開出願番号):特開平9-323221
出願日: 1996年06月03日
公開日(公表日): 1997年12月16日
要約:
【要約】【課題】 ガスを噴出スリットからその全長にわたって均一に噴出させる。【解決手段】 ガス入口3aから噴出側ガス溜りFに送り込まれた反応ガスは、仕切板6の分散スリットBsにより隔壁板5の長さ方向に分散されて噴出スリットFsに流れるので、噴出スリットFsからその全長にわたって均等に噴出されるようになる。吸引スリットKsは、ラジカル反応により生成された反応生成物を吸引するので、反応生成物等によってラジカル反応が阻害されることがなく、したがって迅速に加工することができる。ガス供給ノズルを冷却する必要がある場合は、隔壁板5の通路5cに水等の冷却媒体を流す。
請求項(抜粋):
ガス入口から送り込まれたガスを噴出スリットから外部に噴出させるガス供給ノズルにおいて、上記ガス入口と噴出スリットとの間に噴出側ガス溜りが設けられ、該噴出側ガス溜りには、ガス入口から送り込まれたガスを上記噴出スリットの長さ方向に分散して噴出スリット側に流す分散スリットが仕切板によって形成されたことを特徴とするガス供給ノズル。
IPC (2件):
FI (2件):
B23H 7/02 Z
, H01L 21/302 B
引用特許:
審査官引用 (3件)
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給液ノズル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-243475
出願人:新日本製鐵株式会社, 日鐵プラント設計株式会社
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除塵装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-234083
出願人:株式会社伸興
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特開昭63-120025
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