特許
J-GLOBAL ID:200903097539387080

金属薄膜の製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西藤 征彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-115947
公開番号(公開出願番号):特開2005-298888
出願日: 2004年04月09日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】塗工液や塗工設備の維持、管理等が不要で生産性に優れ、被塗工物(基材)側の形状の制約を受けることなく、均質なナノサイズの金属薄膜を容易に成膜することができる金属薄膜の製法を提供する。【解決手段】金属塩を溶媒中に溶解または分散させて調整液を調製する工程と、この調整液にマイクロ波を照射する工程とを有する金属薄膜の製法であって、マイクロ波の照射前または照射後の調整液に基材を接触させ、上記金属塩中の金属から構成される金属薄膜を基材の表面に直接成膜するという構成をとる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属塩を溶媒中に溶解または分散させて調整液を調製する工程と、この調整液にマイクロ波を照射する工程とを有する金属薄膜の製法であって、マイクロ波の照射前または照射後の調整液に基材を接触させ、上記金属塩中の金属から構成される金属薄膜を基材の表面に直接成膜することを特徴とする金属薄膜の製法。
IPC (1件):
C23C26/00
FI (1件):
C23C26/00 E
Fターム (9件):
4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA08 ,  4K044BB01 ,  4K044BB10 ,  4K044BB15 ,  4K044BC02 ,  4K044BC14 ,  4K044CA41
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
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