特許

J-GLOBAL ID：200903097558154070

処理液供給方法及び処理液供給装置

発明者： 上田 一成
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-041561
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230191
出願日： 2000年02月18日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 ウェハに吐出される処理液の吐出圧を所定の範囲内に維持する。【解決手段】 ガロン瓶81とレジスト液を一旦貯留する中間バッファタンク83とを第1の管路84により連通させ,第1の管路84に第1のポンプ89を設ける。中間バッファタンク83とレジスト液を吐出する吐出ノズル67とを第2の管路95によって連通させ,第2の管路95に第2のポンプ96を設ける。中間バッファタンク83にタンク内のレジスト液の液面高さを検出するハイレベル液面センサ91とローレベル液面センサ90を設ける。これらの液面センサの検出信号は,第1のポンプ89を制御するポンプ制御装置87に入力される。そして,これらの液面センサの信号に応じて,第1のポンプ89が制御され,中間バッファタンク83内の液面の高さが所定の高さに維持される。

請求項（抜粋）：

処理液供給源の処理液をポンプによって圧送し,前記処理液供給源と処理液吐出手段とを結ぶ供給経路を通して,前記処理液を基板に供給する処理液供給方法であって,前記処理液供給源と前記ポンプとの間の前記供給経路に設けられ,前記処理液を一旦貯留する貯留部と,前記貯留部と前記処理液供給源との間の前記供給経路に設けられ,前記貯留部に前記処理液を供給する他のポンプとを有し,前記他のポンプにより前記貯留部に処理液を供給し,前記貯留部内における処理液の液面の高さを所定の高さに維持する工程を有することを特徴とする,処理液供給方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40

FI (4件)：

B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (13件)：

4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4F042AA07 ,  4F042BA09 ,  4F042BA12 ,  4F042CA01 ,  4F042CB02 ,  4F042CB19 ,  5F046JA03 ,  5F046JA04 ,  5F046LA03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 液処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-147367   出願人：ソニー株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-129925   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社, 株式会社東芝