特許

J-GLOBAL ID：200903097584609450

平面磁気素子およびその製造方法

発明者： 福田 泰隆 ,  越前谷 一彦 ,  小日置 英明 ,  鈴木 喜夫
出願人/特許権者： JFEスチール株式会社 ,  川鉄鉱業株式会社
代理人 (1件)： 小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-350766
公開番号（公開出願番号）：特開2004-186360
出願日： 2002年12月03日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】本発明は、インダクタンスが大きく、かつコイル抵抗の小さな平面磁気素子に関する。【解決手段】第1の磁性体層上に平面コイルを形成し、該平面コイルの線間も含めて上層に第2の磁性体層を形成してなる平面磁気素子において、前記の第1の磁性体層と第2の磁性体層の磁性体体積率を60%以上とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

第1の磁性体層上に平面コイルを形成し、該平面コイルの線間も含めて上層に第2の磁性体層を形成してなる平面磁気素子において、前記の第1の磁性体層と第2の磁性体層の磁性体体積率を60%以上とすることを特徴とする平面磁気素子。

IPC (2件)：

H01F37/00 ,  H01F41/02

FI (3件)：

H01F37/00 A ,  H01F37/00 D ,  H01F41/02 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 平面磁気素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-102737   出願人：川崎製鉄株式会社
• ガスデポジション成膜方法及びガスデポジション成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-144524   出願人：株式会社村田製作所
• 磁性素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-367841   出願人：松下電器産業株式会社