特許
J-GLOBAL ID:200903097612341400

非晶質シリコン太陽電池

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-093262
公開番号(公開出願番号):特開平11-298015
出願日: 1998年04月06日
公開日(公表日): 1999年10月29日
要約:
【要約】【課題】p/i層界面付近の欠陥準位を減少させ、もって短絡電流及び形状因子を改善しうることを課題とする。【解決手段】pin接合を有する非晶質シリコン太陽電池において、pin接合はp層(33)上にバッファ層(34 ,35) 、i層(36)及びn層(37)を順次成膜してなり、前記p層(33)にi層(36)よりも光学的禁制帯幅の大きなアモルファスシリコンカーバイトを用い、かつ前記バッファ層(34 ,35) の組成がp層とi層の中間的なCH4 比を有するとともに、i層側界面のみCH4 が徐々に小さくなることを特徴とする非晶質シリコン太陽電池。
請求項(抜粋):
pin接合を有する非晶質シリコン太陽電池において、pin接合はp層上にバッファ層、i層及びn層を順次成膜してなり、前記p層にi層よりも光学的禁制帯幅の大きなアモルファスシリコンカーバイトを用い、かつ前記バッファ層の組成がp層とi層の中間的なCH4 比を有するとともに、i層側界面のみCH4 が徐々に小さくなることを特徴とする非晶質シリコン太陽電池。
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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