特許
J-GLOBAL ID：200903097614492057
オルガノキシ基又はヒドロキシル基を有するシロキサンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-227325
公開番号（公開出願番号）：特開2004-067802
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【解決手段】ケイ素-水素結合を有するシロキサンと、下記一般式(1)で表されるヒドロキシル基を有する化合物とを、ルテニウムカルボニル錯体及びリン配位子の存在下に反応させることを特徴とするオルガノキシ基又はヒドロキシル基を有するシロキサンの製造方法。【化1】(式中、Rは炭素数1〜20の脂肪族不飽和結合を含まない炭化水素基又は水素原子を表す。)【効果】本発明によれば、加水分解性基を持つ反応性有機ケイ素化合物として、或いは変性シリコーンポリマー等として工業的に有用な、ケイ素上にオルガノキシ基やヒドロキシル基を有するシロキサン類を不均化や平衡化、再分配等の副反応を抑制しつつ、高収率で簡便かつ安全に製造できる。【選択図】 な し
請求項（抜粋）：
ケイ素-水素結合を有するシロキサンと、下記一般式(1)で表されるヒドロキシル基を有する化合物とを、ルテニウムカルボニル錯体及びリン配位子の存在下に反応させることを特徴とするオルガノキシ基又はヒドロキシル基を有するシロキサンの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
4H039CA92
, 4H039CD10
, 4H049VN01
, 4H049VP02
, 4H049VP03
, 4H049VP04
, 4H049VQ16
, 4H049VQ21
, 4H049VQ78
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VS01
, 4H049VT17
, 4H049VT30
, 4H049VW02
, 4J035BA02
, 4J035CA02U
, 4J035CA06M
, 4J035FB01
, 4J035FB03
