特許
J-GLOBAL ID：200903097781114005
エバネッセント光露光用マスク、被露光物及びこれらを用いた露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077287
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271960
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 被露光物からエバネッセント光露光用マスクを剥離する際に被露光物に対するエバネッセント光露光用マスクの吸着力を低減することができ、エバネッセント光露光用マスクが被露光物レジスト面に吸着することを回避することができるエバネッセント光露光用マスク、被露光物及びこれらを用いた露光装置を提供する。【解決手段】 おもて面に微小開口パターンを有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、該マスク裏面から光を照射し、該微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、該被露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行うエバネッセント光露光装置を用いるマスクであって、吸着防止手段を該マスクおもて面の最表面に有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
おもて面に微小開口パターンを有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、該マスク裏面から光を照射し、該微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、該被露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行うエバネッセント光露光装置に用いるマスクであって、吸着防止手段を該マスクおもて面の最表面に有することを特徴とするエバネッセント光露光用マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
G03F 1/14 E
, G03F 7/20 505
, H01L 21/30 502 P
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (9件)
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