特許

J-GLOBAL ID：200903097795653065

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 畠山 潤 ,  名倉 茂広 ,  本海 清 ,  永田 岳志 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195616
公開番号（公開出願番号）：特開平9-160247
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線等の高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザーに感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性に優れた微細加工技術に適した高解像性を有し、実用性の高い化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 重量平均分子量が100〜1,000で、かつ分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物の該フェノール性水酸基の水素原子を酸不安定基により全体として平均10〜80%の割合で部分置換した化合物を溶解制御剤として含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

請求項（抜粋）：

重量平均分子量が100〜1,000で、かつ分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物の該フェノール性水酸基の水素原子を酸不安定基により全体として平均10〜80%の割合で部分置換した化合物を溶解制御剤として含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-068630   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111129   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-051222   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-082417   出願人：富士写真フイルム株式会社