特許
J-GLOBAL ID:200903097863229501
光散乱パターン
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-293242
公開番号(公開出願番号):特開2003-098324
出願日: 2001年09月26日
公開日(公表日): 2003年04月03日
要約:
【要約】【課題】光散乱によって表現されるパターンにおいて、精巧で多彩な表現を可能とし、デザインの自由度を向上させると共に、一層高度な偽造防止効果を向上させ、その真偽判定を容易にする。【解決手段】基板表面に形成した凹部または凸部を光散乱要素として、前記光散乱要素の集まりにより、表示画像が規定される光散乱パターンにおいて、少なくとも一部の前記光散乱要素は、回折格子とは異なる凹凸構造であり、単独あるいは複数の組み合わせで意味を持つ記号もしくは文字の形状とする。パターンの装飾効果を向上するために、同一パターン内に回折格子によるパターンを混在させても良い。
請求項(抜粋):
基板表面に形成した凹部または凸部を光散乱要素として、前記光散乱要素の集まりにより、表示画像が規定される光散乱パターンにおいて、少なくとも一部の前記光散乱要素は、回折格子とは異なる凹凸構造であり、単独あるいは複数の組み合わせで意味を持つ記号もしくは文字の形状であることを特徴とする光散乱パターン。
IPC (2件):
FI (3件):
G02B 5/02 C
, G02B 5/02 Z
, G09F 19/12 Z
Fターム (4件):
2H042BA04
, 2H042BA13
, 2H042BA16
, 2H042BA20
引用特許: