特許
J-GLOBAL ID：200903097932385693
浸炭用ガス製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松川 克明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-109902
公開番号（公開出願番号）：特開2005-290509
出願日： 2004年04月02日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 炭化水素と二酸化炭素とを混合させた原料ガスを加熱させながら触媒層を通して反応させて、一酸化炭素の濃度が高くなった浸炭用ガスを製造する場合において、触媒層の一部の温度が低下して煤が発生するのを抑制し、高速で浸炭処理する場合に使用する一酸化炭素の濃度が高くなった浸炭用ガスを効率よく安定して製造できるようにする。【解決手段】 原料ガスGaを加熱させながら触媒層13を通して反応させ、一酸化炭素ガスを含む浸炭用ガスGbを製造する浸炭用ガス製造装置において、触媒層を内管11と外管12との間に設け、この内管と外管とにそれぞれ加熱装置14,16を設けると共に、炭化水素ガスと二酸化炭素ガスとを含む原料ガスに、酸素を含むガスGoを供給するようにした。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
原料ガスを加熱させながら触媒層を通して反応させ、一酸化炭素ガスを含む浸炭用ガスを製造する浸炭用ガス製造装置において、上記の触媒層を内管と外管との間に設け、この内管と外管とにそれぞれ加熱装置を設けると共に、炭化水素ガスと二酸化炭素ガスとを含む原料ガスに、酸素を含むガスを供給することを特徴とする浸炭用ガス製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4G140EA03
, 4G140EA05
, 4G140EA07
, 4G140EB03
, 4G140EB41
, 4G140EC02
, 4K028AA01
, 4K028AB01
, 4K028AC08
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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