特許
J-GLOBAL ID：200903059577791201
ガス浸炭方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 彰司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-090895
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356763
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 ノズル部品、その他の複雑形状を有する被処理品の浸炭処理を通常の浸炭炉で有効に行うことができる浸炭方法を提供する。【解決手段】 変成炉9への炭化水素系ガス、エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給装置10が設けられ、前記エアー及び/又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガス中のCO%を可変制御し、該CO%を制御した変成ガスを浸炭炉に供給して浸炭処理を行うガス浸炭方法。
請求項（抜粋）：
変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給装置が設けられ、前記エアー及び/又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガス中のCO%を可変制御し、該CO%を制御した変成ガスを浸炭炉に供給して浸炭処理を行うことを特徴とするガス浸炭方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
審査官引用 (8件)
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特開平4-268062
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親子弁流量制御方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-047219
出願人：株式会社東芝
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特開昭57-013170
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