特許

J-GLOBAL ID：200903097989680152

逆浸透膜を用いた脱塩処理方法及びその装置並びに逆浸透膜を用いた脱塩処理装置の運転方法

発明者： 梶尾 省三 ,  染谷 芳男 ,  岡田 敏行 ,  村上 良明 ,  下坂 和孝
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-130685
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290259
出願日： 1996年04月27日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 溶存酸素に強い逆浸透膜モジュールを使用し、重亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加して前処理水の酸化還元電位を下げて逆浸透膜モジュールの酸化劣化を防止しているにも拘らず、逆浸透膜が劣化し、逆浸透膜モジュールの脱塩率が低下する。【解決手段】 本発明の逆浸透膜を用いた脱塩処理方法は、銅イオン等の重金属イオンを含有する前処理水に重亜硫酸ナトリウムを添加して脱塩素処理した後、逆浸透膜を用いて被処理水を脱塩処理する方法において、前処理水を高圧逆浸透装置7に供給する前に前処理水の溶存酸素を真空脱気塔4を用いて除去することにより高圧逆浸透装置7による脱塩処理後の濃縮水の酸化還元電位を所定の値(例えば、350mV)以下に維持することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理水に重亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加して脱塩素処理した後、逆浸透膜を用いて被処理水を脱塩処理する方法において、脱塩処理後の濃縮水の酸化還元電位を所定の値以下に維持することを特徴とする逆浸透膜を用いた脱塩処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/04 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/12

FI (7件)：

C02F 1/44 G ,  C02F 1/44 A ,  C02F 1/44 D ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/04 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 逆浸透膜分離装置の運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-219179   出願人：東レ株式会社