特許

J-GLOBAL ID：200903097990111021

位置検出用マーク及び位置検出方法

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-050725
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250391
出願日： 1995年03月10日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】 非対称性を有する位置検出マークに対しても、常に良好な位置検出を可能とする。【構成】 フォトレジストで覆われた基板上の凹部又は凸部からなる位置検出用マークを照射する単色、又は準単色の検出光のフォトレジスト中での波長、又は中心波長をλ、mを零以上の整数として、その凹部又は凸部の段差hを、(2m+1)λ/4-0.05λ≦h≦(2m+1)λ/4+0.05λに定める。

請求項（抜粋）：

基板、又は該基板上に形成されたパターンの位置を検出するために、単色、又は準単色の検出光が照射される、凹部又は凸部からなる位置検出用マークにおいて、前記位置検出用マーク近傍での前記検出光の波長、又は中心波長をλ、mを零以上の整数とすると、前記凹部又は凸部の段差hは、(2m+1)λ/4-0.05λ≦h≦(2m+1)λ/4+0.05λに定められることを特徴とする位置検出用マーク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 502 M ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体基板、位置検出用マークの形成方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-068257   出願人：株式会社日立製作所