特許
J-GLOBAL ID:200903097990526027
防汚性薄膜の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-233913
公開番号(公開出願番号):特開平11-071665
出願日: 1997年08月29日
公開日(公表日): 1999年03月16日
要約:
【要約】【課題】偏光板等の光学部材の防汚性薄膜の形成において、より優れた防汚性薄膜をムラがなく、連続的に形成でき、蒸発量すなわち薄膜の安定性、薄膜形成の制御性および蒸発源の調整やセット等の作業性に優れた防汚性薄膜の形成方法を提供することにある。【解決手段】被処理基材80の表面に防汚性物質の薄膜を巻き取り式真空蒸着装置1によって形成するもので、前記防汚性物質が、化1で表されるフルオロアルキルシランもしくはフルオロアルキルシラザンもしくはこれらの混合物であり、また、前記被処理基材80が、ロールフィルム上に形成された光学部材であり、前記真空蒸着装置1に使用する蒸着源22が多孔質材料を含浸担体とする連続したリボン状である防汚性薄膜の形成方法としたものである。
請求項(抜粋):
被処理基材の表面に防汚性物質の薄膜を形成す方法であって、該薄膜を真空蒸着法によって形成することを特徴とする防汚性薄膜の形成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許: