特許
J-GLOBAL ID：200903098024841354
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-113292
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307523
出願日： 1998年04月23日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 障害等の非常事態の発生に伴って、処理空間を不活性ガスで高速に浄化する場合、APCバルブで加圧状態が発生してしまうことを防止する。【解決手段】 縦型の常圧熱酸化装置は、ウェーハWに対して所定の酸化膜を形成するための反応空間Sを提供する反応炉11と、上記反応空間SにH2ガスとO2ガスの燃焼により生成される水蒸気やN2ガスを供給するガス供給ライン14とを有する。また、この常圧熱酸化装置は、反応空間Sのガスを排出するガス排出ライン15と、このガス排出ライン15の排ガス圧力を制御するAPCバルブ16と、ガス排出ライン15にAPCバルブ16と並列に接続され、装置の非常停止状態が発生した場合に、導通状態に設定されるバイパスライン17とを有する。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の処理を施すための処理空間を提供する処理容器と、この処理容器により提供される前記処理空間にガスを供給するガス供給ラインと、前記処理容器により提供される前記処理空間のガスを排出するガス排出ラインと、このガス排出ラインに挿入され、このガス排出ラインの排ガス圧力を制御する排ガス圧力制御手段と、前記ガス排出ラインに前記排ガス圧力制御手段と並列に接続され、装置の非常停止状態が発生したときに導通状態に設定されるバイパスラインとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/31 E
, H01L 21/316 S
